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韩美日开会商定加深创新技术保护合作

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韩联社首尔、华盛顿4月26日电 韩美日三国政府25日(当地时间)在华盛顿举行“第一次韩美日创新技术保护网络高级会议”,商定为防止半导体、人工智能和生物等高新技术外泄,保障出口限制措施到位,而加深工作层合作。

据韩国法务部和产业通商资源部(下称产业部)当天消息,三方一致认为违反各国出口限制措施的行为威胁国家安全,并达成了上述共识。

法务部、美国司法部和日本警察厅签署了执行涉技术泄露法律的合作意向书,产业部、美国商务部和日本经济产业省签署了涉落实出口限制措施的合作意向书。由此,三方将更为积极分享技术保护、落实出口限制措施方面信息及模范案例。

韩美日创新技术保护网络协商机制是去年8月韩美日戴维营峰会的后续措施。三国首脑当时商定,进一步加深技术保护合作,以防三国研发的尖端技术外泄。三方还决定,美国防技术泄露机构——“颠覆性技术打击小组”将与韩日对口部门构建沟通渠道。(完)

资料图片:当地时间2023年8月18日,在美国戴维营,韩国总统尹锡悦(左起)、美国总统拜登、日本首相岸田文雄举行会谈。 韩联社

资料图片:当地时间2023年8月18日,在美国戴维营,韩国总统尹锡悦(左起)、美国总统拜登、日本首相岸田文雄举行会谈。 韩联社

kchy515@yna.co.kr

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